第503章 nmEBL光刻机研发成功（2/2）

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于是，其中两位保镖默默跟随，直到郝强步入18号实验楼。

实验楼的门外，保镖只能在外等候。

他们并不清楚实验楼里究竟进行着怎样的研究，他们只需要做好保护郝强的本分工作就行了。

一会儿后，郝强终于走到EBL光刻机组装实验室。

走进门时，他环顾四周，看到十几个研发人员和几位组装人员围聚在一台EBL光刻机周围忙碌着。

此时，7nm EBL光刻机的试验运行在实验室内有条不紊地进行着。

这台设备，称为“EBL701”。

“董事长好！”陈臻见到郝强的身影，立刻走了过来，神色恭敬地问候。

郝强点了点头，脸上带着一丝温和的笑容：“嗯，继续运行吧。”

他的目光停留在机器上，眼里充满了期待。

每隔几天，郝强就过来看看项目进展，确保一切都在计划轨道上。

郝强站在一个屏幕前，看了眼设备运行。

电子束在硅片表面快速而精准地雕刻着微小的电路图案，每秒曝光可以达到60万次以上，画完一个芯片的速度非常快，一片硅片仅需要几十秒钟而已。

但是，一块芯片需要画许多层。

针对青龙8124，14nm EBL光刻机最大产能为：150WPH（Wafers Per Hour，即每小时可处理的晶圆数量。）

而7nm EBL光刻机最大产能为：100WPH（Wafers Per Hour，即每小时可处理的晶圆数量。）

随着机器启动的低沉嗡嗡声响起，实验室里的工作人员开始紧张地调整设备，进入各项测试环节。

陈臻站在设备旁，眉头紧锁，时不时查看显示屏上的数据反馈。

这些数据关系着机器运行的效果，也意味着研发的成败。

随着时间的推移，整个实验室逐渐安静下来，唯一能听到的，只有机器正常运转的声音和偶尔的技术员交流。

终于，在经过一系列的复杂测试和校准后，陈臻抬起头，露出了一丝满足的微笑。

“董事长，试制了三片晶圆，一切正常，光刻机的运转精准稳定，图案转印效果非常好，达到了我们预期的精度。”

他向郝强报告着试验结果，语气中带着一丝激动和自豪。

郝强缓缓地点了点头：“嗯，多测试几天，稳定下来后，继续推进量产工作。