第56章 芯片优化与架构（2/2）

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“先不说问题，如果我没猜错的话，我们的材料应该是足够支撑到十纳米以下了吧？目前是什么限制了制造进度？”柯联元首问道。

“魔刻机。”婕卡直接回答。

“果然还是这个问题么……”柯联元首也是陷入沉思。

通俗来讲。

现在芯片材料已经完全确定，并且材料的强度也足以支撑纳米级芯片制造，理论上也能轻松突破十纳米以下。

问题难点在于，如何制式的、精准的、高效的将其批量制造的同时，还能满足十纳米级以下的精度。目前的魔刻机技术，还完全无法到达他们的需求。

“我们相关的工程师和魔女们已经尽可能的想办法优化魔刻机，进度确实一直都有，但并没有预想中那么快。”婕卡很不想承认这方面的进度不足，但事实就是如此。

“嗯……”

柯联元首陷入沉思。

……

魔刻机、光刻机。

由于世界基础构造不同，这个元素构成的世界，并没有原子、光谱这类东西。

物质的基础构成是元素、光的基础构成则是比较纯粹的光元素，不同类型的光可能会有其他元素的介入，但本质还是光元素为主，因此除保留基础的直线运动特性外，连基础的“光速”都没有。

这个世界的光，没有恐怖的“光速”。

只是相对较快。

同时。

这个世界的光，没有“光谱”。

无法做到和光刻机完全同理的光谱印刻，只能用魔法元素的能力，做到相似的代替。

……

“魔刻机那边，有给到下一阶段突破的大概时间吗？”柯联元首问道。

“如果是二十纳米以下，预计是在两个月后。但想要到达十纳米以下，运气好也需要一年左右的时间，我待会儿可以把相关的资料调给你。”婕卡说道。

“刚好到达十呢？”柯联元首问道。

“这个倒是有可能今年完成。”婕卡想了想回答道。

“那就好办了，准备一个临时的重要会议，关于芯片架构问题的。”

“只要能够短时间突破到十纳米，那么之后就是优化架构的问题，争取做到算力指数级的增加。保证未来单颗芯片的极限算力，也有机会验算出一个最低级的九阶编阵魔法。”