第271章 动摇（2/2）

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但无论是支持派还是怀疑派，所有人的目光都集中在许志远身上。他们知道，真正的高潮，还没有到来。

许志远走向讲台中央，背后的大屏幕上已经切换到一幅巨大的光刻机内部剖面图。灯光调暗，聚光灯打在他的身上，整个会场瞬间安静下来。即便是那些满脸不屑的怀疑派代表，也不得不抬起头，注视着屏幕上密密麻麻的复杂结构。

许志远语调平稳，开始讲解：“各位代表，这是一台我们龙国自主研发的光刻机，它是芯片制造中最核心的设备之一。没有光刻机，就无法完成芯片的精确制造。而我们今天展示的芯片数控系统，正是基于这种设备制造的高精度芯片。”

他用激光笔指向屏幕，分步骤详细阐述光刻机的核心工作原理：

“首先是光源，这是光刻机的核心之一。我们采用了深紫外光源技术，这种光源的波长短至248纳米，可以在纳米级范围内精确刻蚀芯片的电路图形。为了实现这个光源，我们的团队开发了一种新型气体激光器，并解决了光源稳定性和强度的问题。” 台下的支持派代表们听得目不转睛。瑞士某精密仪器公司的代表忍不住低声说道：“这种深紫外光源技术我们也在研究，但目前还没达到这种稳定性，这也太快了……”

许志远继续说道：“接下来的关键是光学投影系统，它的作用是将电路图形通过掩膜版投影到芯片的晶圆上。我们的光学系统使用了高精度的多组光学透镜，能够将电路图形缩小数倍，投影精度达到亚微米级别。”

指向屏幕上的光学透镜剖面图，详细解释了透镜的设计原理和制造工艺：“我们团队攻克了光学透镜加工的一系列难题，保证透镜的表面精度误差不超过0.1微米。” 台下的汉斯代表眉头皱起，低声对同伴说道：“这……如果是真的，他们的光学技术已经不输给我们了。”

许志远接着讲解：“最后一步是将电路图形刻蚀到晶圆上。这需要高精度的掩膜版和极其稳定的晶圆固定装置。我们自主研发了掩膜版制造技术，并在晶圆刻蚀过程中实现了纳米级误差控制。”

说到这里时，屏幕切换到一个动态视频，展示了光刻机工作时的运转画面。从光源发射到电路图形被刻蚀到晶圆上，每一个步骤都毫无保留地呈现在众人眼前。

许志远的讲解条理清晰，数据详实，每一个技术细节都经得起推敲。随着展示的深入，会场中的氛围开始发生微妙的变化。

支持派代表们的态度已经从最初的期待逐渐转变为震撼。

“深紫外光源？亚微米级投影精度？如果这些都是真的，那他们的光刻机技术已经不输给我们了！”汉斯某汽车制造企业的代表低声说道。他的同伴点了点头，补充道：“这已经不是简单的技术突破，而是一种全面的超越。”

瑞士代表同样难掩惊叹：“他们的光学技术居然能做到这种地步？这简直难以置信。我一直以为光刻机是我们西方国家的绝对技术优势。”