第203章 最后一战（下）（2/2）

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任务的奖励是一个名为“南京”的压缩包，大小有八十多个G。

周岩跳进了空间，解压之后，只是看看一小部分，就不敢再看了，说人间地狱已经不足以形容里面的内容了。

第二天，周岩找了个空白硬盘，将资料装了进去，然后用航空快件发给了刘安国。

过了十二月十三号，系统任务结算。

【整体评价：优！

积分奖励：一万。

额外奖励1：高阶AlphaGo源代码。

额外奖励2：脚盆家产免费抽奖一次！

附加奖励：南京（已发放）。】

还来？

看到AlphaGo的字样，周岩差点没抽过去：这玩意儿当年可是碾压了围棋圈一众大牛的存在。

不过，看到源代码的字样之后，周岩的口吐芬芳，就变成“真香”了。

“抽奖什么时候开始？”

【现在就可以！】

然后，周岩眼前突然出现了一个九阶的魔方，模仿的小格子在不停地闪烁着，最后，落到了某个小格子上。

【恭喜宿主获得纳米压印光刻（NIL）技术全套资料。】

卧槽！

周岩突然感觉有十万只神兽从眼前飞过：系统这是打算把脚盆鸡给薅秃了。

纳米压印光刻（NIL）可是号称可以媲美极紫外光刻（EUV）的技术。

虽然都是用于芯片加工的顶尖技术，可两项技术的方向并不一样。

芯片加工最重要的一环——蚀刻，是用氢氟酸在高纯度硅片上蚀刻加工半半导体元件所需要的沟槽，这一步，所有的半导体加工路线都是一样的。

而在这之前，为了保证应该被蚀刻的地方被蚀刻，需要在硅片上涂上一层保护用的光刻胶：需要蚀刻的地方，将光刻胶除掉。

而在除掉不需要保护的光刻胶时，衍生出了纳米压印光刻（NIL）和深（极）紫外光刻（DUV/EUV）。

深紫外光刻（DUV）或者极紫外光刻（EUV）的原理是，利用凸透镜片的聚焦作用，汇聚高能光线，透过等比例雕刻了半导体元件形状的透光板（掩膜版），对光刻胶进行烧蚀“除胶”处理。

而纳米压印光刻（NIL），其实上跟光刻不沾边，它是利用电子束雕刻半导体元件的“印章”形状，然后压在柔软的光刻胶涂层上，以实现“除胶”。